产品详情：赋能创“芯” 把控化学品中超痕量金属元素污染应对极致检测需求！
来源：乐鱼体育平台 发布时间：2025-04-01 08:53:30
（单杆、三重四极杆到高分辩）的全产品线解决计划，适用于不同制程的痕量污染物检测需求，保证
N-甲基吡咯烷酮（NMP）、丙二醇甲醚醋酸脂（PGMEA）、乳酸乙酯、二甲基乙酰胺等。如异丙醇因其低表面张力和易蒸发性而用于晶片清洗和枯燥，在封装测验、化学中间体和油墨生产中异丙醇的需求量也很大；NMP和PGMEA作为高档溶剂可与水互溶，并且能溶解大部分的有机和无机化合物，具有十分杰出安稳性，被大范围的应用于光刻胶溶剂等。
QA/QC检测，遵从世界半导体设备和资料安排SEMI规范中规则用ICPMS法来测定超痕量金属离子杂质，此外，还能够给我们供给立异R&D查验测验计划，精确地对杂质进行查验确认和监测，能够有利于工艺计划的优化及产品质量的操控，以及不同批次产品间的组分差异，助力打破研制壁垒。
ICPMS测定有较大的应战，高蒸发性增加了等离子体负载，导致炬焰缩短而熄火，炬管和接口的积碳导致检测强度下降影响长时间安稳性，甚至于阻塞锥孔。因而传统测验上选用蒸发蒸干用酸提取，关于水溶性溶剂也运用稀释法进样。固态聚合物更多地运用高温灰化或微波消解的前处理办法。但随着试剂纯度的进步，关于其间要求的杂质限量值越来越低，样品前处理过程往往会有引进污染的危险，尤其是前处理条件不能够满意洁净度要求的情况下。
最新变频阻抗匹配规划的RF发生器，关于有机溶剂直接进样具有及其快速的匹配，并结合高效Peltier雾化室制冷模块，在雾化室衔接管上接入高纯度氧气，与样品气溶胶混合后导入离子体，加氧消除积碳坚持进样安稳性，即便在600w冷等离子体条件下也能取得安稳的测定成果。串联四极杆技能结合磕碰与反响形式可进一步去除碳、氮、氩等基体发生的多原子离子搅扰，可取得低布景值并更为精确的成果。剖析操作流程也更简略、快速，可有用操控外来污染并进步剖析工作功率。
NMP在半导体工业用处广泛，可作为光刻胶溶剂、除胶剂、清洗剂等。NMP密度为1.028g/cm3与水的密度适当，沸点202℃其在室温下蒸发性低，粘度较低并能够与水互溶。结构中存在N-甲基使NMP直接进样ICPMS剖析时，其基体效应相关于异丙醇要强，将按捺待测元素的信号强度。经过等离子体条件优化，结合规范参加法定量测定可消除基体效应。
NMP的检测中，选用赛默飞三重四极杆iCAP TQs半导体专用ICPMS，将ICPMS雾化室制冷至-5℃，削减有机溶剂进样量，50ml/min等离子体加氧防止锥口积碳。有机溶剂直接进样测守时，碳、氮、氩基体离子将对待测离子发生严峻的搅扰，如¹²C₂+对²⁴Mg+，¹³C¹⁴N+对²⁷Al+，¹⁴N¹⁶O¹H+和¹²C¹⁸O¹H+对³¹P+，以及¹²C+的峰拖尾对M-1的¹¹B+的搅扰等等，办法中选用冷等离子体形式，可大大下降C、N、Ar等电离，一起在Qcell中加纯氨反响以取得低布景值。¹¹B的测定选用Q1和Q3的高分辩形式，进步丰度灵敏度消除¹²C+的影响。³¹P选用热等离子体氧反响形式，Q3挑选³¹P¹⁶O+消除CNHO的多原子离子的搅扰。
安稳牢靠的RF发生器在等离子体加氧下，可适合于直接进样测定有机溶剂，冷等离子体可有用按捺碳基多原子离子的搅扰，结合TQ氨气和氧气反响形式，在一次测定中可安稳切换各种测定形式，进步易用性和剖析功率，可满意半导体职业超痕量ppt级的痕量金属杂质检测要求。
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